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Product Details

WFD18H-DBM

胶工艺固晶机

设备优势

高精度:± 3μm的位置精度;

高柔性:多吸嘴切换配置,灵活切换,能兼容多种不同尺寸大小的芯片;

高扩展性:上下料工位灵活配置,Waffle pack、Gel pack、6寸 Wafer Plastic Rings;  

高效率:多工位并行作业,单位时间产出效率大幅提升;

优秀工艺能力:可完美实现点蘸划胶作业,精准进行Pick-Place动作流程,流程完成吸嘴切换;数字式漏晶检测,报警或自动重新拾取芯片功能;Postbond取放精度检测统计;

机台软件易用,编程/转线简单快捷。


WFD18H-DBM

性能参数

项目配置与参数
贴装工艺蘸胶 / 画胶、UV胶固化
应用场景COB / BOX
贴片周期3S(标准片,一个pick&place)
贴装精度位置XY±1.5μm(标准片) ±3μm(依赖具体应用)
物料规格芯片尺寸(L-W-H)Min: 0.15 × 0.15 × 0.1mm    Max: 10 × 10 × 2.0mm
基板尺寸(L-W-H)Min: 50 × 50 × 1mm    Max: 260 × 100 × 3mm
供料装置芯片供料支持6个8寸Wafer Ring / 兼容6寸wafer 或 Wafflepack/Gel-pak更换
基板供料料盒传输(可根据产品需求定制尺寸),可选配上/下料机
固晶系统顶针模组1套,4个顶针头模组,程控自动更换
焊头/吸嘴取/固晶焊头配备6个吸嘴,程控自动更换
键合力控10-150g ± 20% / 200-500g ± 10%(胶筒)
点胶系统画胶武藏脉冲气压式点胶,兼容3-10CC胶筒
支持UV胶工艺,选配UV LED或UV汞灯、高效固化
蘸胶蘸胶针可根据产品需求定制(形状、尺寸)
6套蘸胶针,程控自动更换
工艺兼容可同时兼容蘸胶/画胶两种点胶工艺,自定义编程点胶、画胶;力控式测高/激光测高
视觉系统配置4个下视(固晶相机4X、点胶相机2X、中转相机4X、晶圆相机4X)
2个上视(吸嘴-校准相机4X、胶针校准相机2X)
光源配备可编程同轴光 + 可编程RGB三色环光
设备/能源重量2100KG
尺寸(L-W-H)1700mm × 1600mm × 1600mm(不含三色灯及FFU)
电源220V  50Hz  2.2KW
压缩空气压力>0.5Mpa    接口管径:8mm
氮气预留


万福达专注于半导体封装测试设备的
设计、制造与销售

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