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semiconductor device
WFD22Z手动脉冲共晶机
产品特点

高位置精度 : 贴装精度±1.5μm(标准片) , 重复精度±0. 5μm ,支持亚微米级光通器件高密度键合;

  高力控精度 : 压力范围0. 1 -50N ,控制精度±0. 1 N ,适配激光器芯片 、硅光芯片等超薄/异形器件;

  高温控精度: 温控精度±0. 5 ℃ ,  温度均匀性±1. 5 ℃ ;

产品介绍
规格参数

产品优势:

高位置精度 : 贴装精度±1.5μm(标准片) , 重复精度±0. 5μm ,支持亚微米级光通器件高密度键合;

高力控精度 : 压力范围0. 1 -50N ,控制精度±0. 1 N ,适配激光器芯片 、硅光芯片等超薄/异形器件;

高温控精度: 温控精度±0. 5 ℃ ,  温度均匀性±1. 5 ℃ ;

共晶模块采用脉冲加热方式,多段温控, 实时监控动态补偿, 支持快速升温(10℃/s)与精准降温( 5 ℃/s ) ,避免热冲击导致的材料变形;

适用材料与兼容性: 支持金锡(AuSn)、银浆 、 环氧胶等多种键合材料 ,兼容陶瓷基板 、硅基板 、玻璃基板。

应用领域:
适用于研发及实验室端的光通芯片 、激光雷达 、射频 、 功率 、 图像传感 、 MEMS等领域的高精度键合/堆叠。

项目 WFD22Z
贴装工艺   胶工艺 , 共晶
机器性能 XY位置精度 ±1.5μm
角度精度 ±0 . 3°
芯片处理能力 芯片大小 最小100μm ,华夫盒/凝胶盒上料,其他范围可定制
基板处理能力 基板尺寸 50-200mm,其他范围可定制
工作行程 X轴 400 mm
Y轴 200mm
Z轴 100mm
    共晶平台加热 加热方式 脉冲加热
温控精度 温控精度±0.5℃   温度均匀性±1.5℃
温度范围 室温-450℃
   邦头加热(选配) 温度范围 室温-450℃
   力控能力 压力范围 0. 1 -50N
控制精度 0. 1 N
机器尺寸和重量 尺寸 1000x 1000 x 1400 mm (不含显示器 、 三色灯及FFU)
重量 ≈300 Kg
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